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文献综述
随着社会现代化的高速发展，各种电子产品走入人们的生活，如电视、手机、平板、互联网等。所有这些技术的实现，其中都包含了数量庞大的电子元器件、集成电路等，而薄膜是这些器件和电路的基础。随着真空系统和各种分析表征技术的不断进步，以及其他工艺的发展，薄膜产业得到了迅猛的发展，薄膜的应用己经扩大到各个领域，作为特殊形态材料的薄膜，己成为微电子、信息、传感器、光学、太阳能等利用多种技术的基础，并广泛渗透到当代科技的各个领域，如塑料金属化制品、建筑玻璃镀膜制品、光学薄膜、集成电路薄膜、液晶显示器、刀具硬化膜、光盘、磁盘等等，都有了很大的生产规模。薄膜的应用不仅使得元器件朝微型化发展，而且在一定程度上提高了器件的性能。[1]
薄膜材料中，铝金属具有良好的导电性、导热性、耐腐蚀性、吸音性及耐核辐射性等优良性质,并且具有良好的光电性能等优良性质。其优异的光学性质和电学性质,使得铝薄膜在半导体掩膜、磁盘、宇宙空间用光学镜片、环形激光陀螺等纳米器件上的应用越来越广。薄膜的制备工艺很大程度上会影响到薄膜的性能。[2]
薄膜的制备方法有很多，如物理气相沉积、化学气相沉积、电镀等。物理气相沉积包括溅射镀膜、真空蒸镀、离子镀和蒸镀聚合法等。其中，溅射法镀膜的优点主要包括以下几个方面：
(1)所制备膜层在衬底上的附着力较强。
(2)可以控制膜的成分，制备各种不同成分和化合价态的薄膜。
(3)可以在较大面积上制备出均匀性较好的膜层。
(4)可以实现反应溅射，方便制取各种氧化物、氮化物等化合物薄膜。
(5)便于实现连续化、自动化操作的工业化生产等。
溅射镀膜因其诸多优点被广泛的由于各种薄膜的制备，如超硬薄膜、超导薄膜、磁性薄膜、光学薄膜,以及各种具有特殊电学性能的薄膜等。[3-4]
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